納米級3D打印 無掩膜直寫光刻 超快激光加工
設備銷售/定制研發/加工服務
2025年2月26-28日,光電行業的年度盛會——APE亞洲光電博覽會在新加坡展覽中心璀璨啟幕,吸引了全球目光。在這場匯聚前沿科技與創新力量的舞臺上,魔技納米科技作為國內商用納米級三維激光光刻設備自主研發的行業先鋒,受邀參展。
魔技納米科技展位現場[D203],向國內外行業人士展示了創新產品與先進技術,介紹了產品如何在實際應用中推動產業升級和技術創新,同時分享了在光電技術研發、市場應用、行業發展趨勢等方面的深刻見解,同國內外行業人士共同聚焦光電技術的創新與應用,推動全球光電行業的可持續發展。
魔技納米科技的研發團隊擁有超過十年的微納三維制造技術經驗,具備完整的自主開發能力。企業推出了三維微納加工/納米3D打印設備、超快激光微納加工中心、無掩膜直寫光刻設備三大系列及多款光刻膠產品,其中自主研發的商用納米級三維激光直寫光刻系統,實現了70nm的高精度三維結構加工,以高精度、高速度、大幅面、長時穩定等核心技術優勢,實現了從科研到商業應用的跨越,適用于生物醫療、光電通信、新材料、微納器件等多個行業。
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三大核心產品,彰顯技術硬實力
l 三維微納加工 / 納米3D打印設備:
可實現在納米級精度上三維結構的自由設計,具有高速度、超分辨、大范圍、無限寫場等技術優勢,大幅提高加工效率及產品質量、降低生產成本,為科研與工業生產提供了高精度的制造保障 。
l 超快激光微納加工中心:
配備雙波長飛秒激光系統,不僅擁有高分子材料、金屬、晶體柔性材料等納米級高精度的多光子增材加工能力,而且還具備多種材料的微納米級減材和表面及內部改性的能力。
l 無掩膜直寫光刻設備
打破傳統光刻的限制,無需掩膜即可實現直寫光刻,快速簡單的高精度對準程序,可實現2D/2.5D微納結構加工,配備納米級到微米級多種加工模式,一鍵切換;并且擁有長時穩定性控制系統,保證加工穩定性與一致性。
此次展會,對于魔技納米科技而言,不僅是展示實力的舞臺,更是與行業伙伴相互啟發的契機。未來,魔技納米科技將堅守技術創新的理念,不斷探索未知,挖掘更多可能,攜手各界伙伴,共同開啟科技新紀元!